曹 镛（1941.10- ）高分子化学家。湖南长沙人。1965年毕业与于苏联列宁格勒大学化学系，1987年获日本东京大学理学博士。1966-1988年任职中国科学院化学研究所，历任实习研究员、助理研究员、副研究员、有机固体研究室副主任、研究员。1988-1990年任美国加州大学圣巴巴拉分校高分子及有机固体研究所资深研究员。1990-1998年任美国圣巴巴拉UNIAX公司资深研究员。1998年后任华南理工大学教授、博士生导师、高分子光电材料与器件研究所所长。2001年当选为中国科学院化学部院士。自1975年以来，开始从事有机固体、光电高分子材料器件的研究。在对导电聚合物的结构与性能关系进行研究的基础上，提出了"对阴离子诱导加工性（Conter-Ion Induced Processibility）"概念，解决了导电高分子的高导性与加工性不能同时并存的难题，研制出高导性与加工性兼具的导电聚合物，其研究成果已形成商品化生产。成功地用可溶性高导聚苯胺涂复在聚酯（PIT）薄膜上取代ITO作为透明电极，首次在国际上实现可弯曲的大面积塑料发光二极管。提出了一种新的方法，可以在使用铝等较稳定的金属作阴极时，其电荧光效率达到甚至超过钙等低功函数金属作阴极的量子效率。已获得专利13项，其中中国专利1项4，美国专利12项。1988年与他人共同获国家自然科学奖二等奖。撰有论文130多篇。